高溫電漿熔射覆膜

 

應用於半導體產業薄膜製程與蝕刻製程之相關機台使用.

特長:

- 高緻密度與高密著力覆膜

- 全程高潔淨無汙染嚴格控制

- 高品質表面研磨技術

 

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